RIE反應(yīng)離子刻蝕機的應(yīng)用RIE(Reactive Ion Etching,反應(yīng)離子刻蝕)反應(yīng)離子刻蝕機是一種在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來進行刻蝕的設(shè)備,它結(jié)合了物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)的雙重作用。以下是RIE反應(yīng)離子刻蝕機的主要應(yīng)用領(lǐng)域
SiP與先進封裝的異同點SiP系統(tǒng)級封裝(System in Package),先進封裝HDAP(High Density Advanced Package),兩者都是當(dāng)今芯片封裝技術(shù)的熱點,受到整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的高度關(guān)注。那么,二者有什么異同點呢?