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日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備 RIE-10NR

簡要描述:RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能、全自動反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),能夠滿足非腐蝕性氣體化學(xué)最苛刻的工藝要求。 計(jì)算機(jī)化觸摸屏為工藝配方編程和存儲提供了用戶友好的界面。該系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精確的側(cè)壁輪廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。憑借其圓滑、緊湊的設(shè)計(jì),RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。

  • 更新時(shí)間:2024/11/1 6:22:11
  • 訪  問  量:2223
  • 產(chǎn)品型號:RIE-10NR
詳細(xì)介紹

 

 

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

SAMCO RIE-10NR

 

簡介:

RIE-10NR是一種新型的低成本、
高性能、全自動反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),
能夠滿足非腐蝕性氣體化學(xué)最苛刻
的工藝要求。
計(jì)算機(jī)化觸摸屏為工藝配方編
程和存儲提供了用戶友好的界面。
該系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精確的側(cè)壁輪
廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。
憑借其圓滑、緊湊的設(shè)計(jì),
RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。
 
應(yīng)用:
硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、
砷化鎵、鉬、鉑、聚酰亞胺等材料的
腐蝕失效分析中的選擇性層腐蝕。

 

 

 

 

 

 

 

主要功能和優(yōu)點(diǎn):
1、加工至ø220 mm(ø3“x 5,ø4”x 3,ø8”x 1)。
2、高選擇性各向異性蝕刻滿足嚴(yán)格的工藝要求全自動“一鍵式”操作。
3、自動壓力控制,允許獨(dú)立于氣流干泵和系統(tǒng)布局的過程壓力精確控制,便于維護(hù)。
4、于Windows的用戶界面,豐富的配方和內(nèi)置的數(shù)據(jù)記錄功能,是一個(gè)可靠和持久的系統(tǒng),全球安裝了400多個(gè)系統(tǒng)。
 
 
 
主要參數(shù)規(guī)格:
基板
220 mm(ø3“x 5,ø4”x 3,ø8”x 1)
負(fù)載
開放式
上下電極
ø240 mm
射頻功率
300瓦@13.56兆赫,自動匹配(500瓦為選項(xiàng))
可切換射頻供電電極(陽極/陰極模式)為選項(xiàng)
氣體管道
內(nèi)部2條MFC控制的氣體管道(最多6條)
干泵(500升/分鐘)
操作系統(tǒng)
觸摸屏操作(可選擇基于Windows的用戶界面)、配方管理
端點(diǎn)檢測
光學(xué)發(fā)射光譜(OES)作為一種選擇
尺寸
500 mm(寬)x 920 mm(深)x 1501 mm(高)

 

 
 
 
                   
 
 
 

 


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